/// 由于AI投资持续扩大及高宽带存储器(HBM)需求激增，显示器与半导体产业朝着更精细化、更高集成度方向迈进，先进封装领域的市场规模正迅速扩张。在这一背景下，高性能工艺材料的战略重要性日益凸显。 其中，随着电路精细程度不断提高，残留物的去除性能直接关乎产品良率与可靠性。 因此，剥离液(Stripper)技术实力 已成为决定半导体品质的关键因素， LG化学正以高性能、高可靠的剥离液产品， 积极布
由于AI投资持续扩大及高宽带存储器(HBM)需求激增，显示器与半导体产业朝着更精细化、更高集成度方向迈进，先进封装领域的市场规模正迅速扩张。在这一背景下，高性能工艺材料的战略重要性日益凸显。
其中，随着电路精细程度不断提高，残留物的去除性能直接关乎产品良率与可靠性。
因此，剥离液(Stripper)技术实力已成为决定半导体品质的关键因素，LG化学正以高性能、高可靠的剥离液产品，积极布局全球市场并拓展合作伙伴关系。
合作风向 | 携安靠科技布局调光膜市场
今年，LG化学将向全球领先企业安靠科技(Amkor)供应半导体用剥离液。针对安靠科技的新产线环境，通过其升级版定制剥离液将光刻胶及残留物的去除时间较以往缩短50%，大幅提升工艺效率。
Q 什么是Stripper？
在半导体和显示器制造过程中，若光刻胶及其余残留物未被完全去除，可能会导致制程缺陷、图形失真及产品可靠性下降。
Stripper(剥离液)作为一种湿电子化学材料，用于去除光刻胶及工艺残留物。该材料凭借优异的清洁性能，显著减少对精细化图形的损伤，从而提升后续工艺的稳定性及终端产品的可靠性。
Stripper的剥离速度意味着？
剥离速度是影响生产效率的重要因素之一。优异的剥离性能可有效缩短制程时间并提高设备产能，进而有助于提升整体制造效率。
Q Stripper应用于哪些领域？
在OLED、LCD等显示器制造领域，尤其是高分辨率OLED对图形的精密度要求较高，Stripper在去除残留物和光刻胶的同时，最大程度减少对基板及薄膜的损伤，以确保精密图形的完整性和制程稳定性。
在半导体先进封装领域，Stripper广泛应用于RDL(重布布层)、Bump(凸点)、TSV(Through Silicon Via，硅通孔)等工艺中，可有效去除负性、正性光刻胶及其残留物。同时，该材料还凭借低损伤特性，最大程度降低对金属布线及低介电常数(Low-k)材料的影响，从而保障精密结构的完整性、工艺稳定性及产品可靠性。
Q LG化学的Stripper产品优势？
LG化学采用符合全球环保法规的无NMP和DMSO配方设计，凭借优异的剥离速度和卓越的残留物去除性能，在短时间内实现光刻胶的完全剥离；通过自主界面控制技术，显著降低对金属布线及基板的损伤。
同时，LG化学开发适用多工艺的定制化剥离液产品，有效满足了多元化先进半导体制造对良品率、高可靠性及精细图案保护的严苛要求。
未来，LG化学将继续夯实尖端技术及产品竞争优势，深耕半导体精密制造等新赛道，持续开发并拓宽前沿技术的应用场景。
/// 由于AI投资持续扩大及高宽带存储器(HBM)需求激增，显示器与半导体产业朝着更精细化、更高集成度方向迈进，先进封装领域的市场规模正迅速扩张。在这一背景下，高性能工艺材料的战略重要性日益凸显。 其中，随着电路精细程度不断提高，残留物的去除性能直接关乎产品良率与可靠性。 因此，剥离液(Stripper)技术实力 已成为决定半导体品质的关键因素， LG化学正以高性能、高可靠的剥离液产品， 积极布
由于AI投资持续扩大及高宽带存储器(HBM)需求激增，显示器与半导体产业朝着更精细化、更高集成度方向迈进，先进封装领域的市场规模正迅速扩张。在这一背景下，高性能工艺材料的战略重要性日益凸显。
其中，随着电路精细程度不断提高，残留物的去除性能直接关乎产品良率与可靠性。
因此，剥离液(Stripper)技术实力已成为决定半导体品质的关键因素，LG化学正以高性能、高可靠的剥离液产品，积极布局全球市场并拓展合作伙伴关系。
合作风向 | 携安靠科技布局调光膜市场
今年，LG化学将向全球领先企业安靠科技(Amkor)供应半导体用剥离液。针对安靠科技的新产线环境，通过其升级版定制剥离液将光刻胶及残留物的去除时间较以往缩短50%，大幅提升工艺效率。
Q 什么是Stripper？
在半导体和显示器制造过程中，若光刻胶及其余残留物未被完全去除，可能会导致制程缺陷、图形失真及产品可靠性下降。
Stripper(剥离液)作为一种湿电子化学材料，用于去除光刻胶及工艺残留物。该材料凭借优异的清洁性能，显著减少对精细化图形的损伤，从而提升后续工艺的稳定性及终端产品的可靠性。
Stripper的剥离速度意味着？
剥离速度是影响生产效率的重要因素之一。优异的剥离性能可有效缩短制程时间并提高设备产能，进而有助于提升整体制造效率。
Q Stripper应用于哪些领域？
在OLED、LCD等显示器制造领域，尤其是高分辨率OLED对图形的精密度要求较高，Stripper在去除残留物和光刻胶的同时，最大程度减少对基板及薄膜的损伤，以确保精密图形的完整性和制程稳定性。
在半导体先进封装领域，Stripper广泛应用于RDL(重布布层)、Bump(凸点)、TSV(Through Silicon Via，硅通孔)等工艺中，可有效去除负性、正性光刻胶及其残留物。同时，该材料还凭借低损伤特性，最大程度降低对金属布线及低介电常数(Low-k)材料的影响，从而保障精密结构的完整性、工艺稳定性及产品可靠性。
Q LG化学的Stripper产品优势？
LG化学采用符合全球环保法规的无NMP和DMSO配方设计，凭借优异的剥离速度和卓越的残留物去除性能，在短时间内实现光刻胶的完全剥离；通过自主界面控制技术，显著降低对金属布线及基板的损伤。
同时，LG化学开发适用多工艺的定制化剥离液产品，有效满足了多元化先进半导体制造对良品率、高可靠性及精细图案保护的严苛要求。
未来，LG化学将继续夯实尖端技术及产品竞争优势，深耕半导体精密制造等新赛道，持续开发并拓宽前沿技术的应用场景。
