中国电科11所焦平面技术攻关团队成功研制硅基碲镉汞p-on-n型红外短波探测器芯片
近日,中国电科11所焦平面技术攻关团队成功研制硅基碲镉汞p-on-n型红外短波探测器芯片。
“硅基碲镉汞红外探测器典型工作温度为液氮温度77开尔文(-196摄氏度),这种低温工作环境极大限制了它们的体积、质量、功耗、成本的控制,从而限制了红外探测器的应用。”技术专家表示,11所焦平面技术攻关团队持续攻坚材料及器件关键技术,制备的新型红外短波探测器芯片在77开尔文温度下性能良好。在150开尔文(-123摄氏度)温度下同样性能良好。
该项技术突破解决了制约短波大面阵技术发展的难题,为高性能硅基碲镉汞探测器技术发展奠定了基础。后续,技术攻关团队将持续创新突破,进一步提升探测器芯片性能,早日实现更高性能红外探测器芯片的研制。
中国电科11所焦平面技术攻关团队成功研制硅基碲镉汞p-on-n型红外短波探测器芯片
近日,中国电科11所焦平面技术攻关团队成功研制硅基碲镉汞p-on-n型红外短波探测器芯片。
“硅基碲镉汞红外探测器典型工作温度为液氮温度77开尔文(-196摄氏度),这种低温工作环境极大限制了它们的体积、质量、功耗、成本的控制,从而限制了红外探测器的应用。”技术专家表示,11所焦平面技术攻关团队持续攻坚材料及器件关键技术,制备的新型红外短波探测器芯片在77开尔文温度下性能良好。在150开尔文(-123摄氏度)温度下同样性能良好。
该项技术突破解决了制约短波大面阵技术发展的难题,为高性能硅基碲镉汞探测器技术发展奠定了基础。后续,技术攻关团队将持续创新突破,进一步提升探测器芯片性能,早日实现更高性能红外探测器芯片的研制。